2025全新推出-高洁净PFA防静电膜片阀
打破静电瓶颈，全面守护高洁净制程
三大核心亮点
⚡卓越静电抑制
静电电压由「-2.58kV → -158V」 ，抑制效果明显。🏭制程更稳定
内外「压差降低40%」 ，减少膜片磨损与污染风险。✅符合国际标准
通过SEMI F57高洁净规范，适用半导体与尖端产业制程。
应用场景
✅ 半导体晶圆厂：提升良率，降低静电缺陷风险
✅ 高纯化学品输送：避免静电点火，保障制程安全
✅ 生物制药与精密化工：稳定输送，维持无污染环境
技术规格
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 材质 | 高纯度PFA + 抗静电复合材质 |
| 工作压力 | 0.3–0.5 MPa |
| 使用温度 | −20°C ~ 150°C |
| 尺寸规格 | 1/4" ~ 1-1/2" |
| 认证 | SEMI F57 |
台南，2025年9月10日– 和正丰科技股份有限公司（BUENO TECHNOLOGY CO., LTD.）将于SEMICON Taiwan 2025 发表其最新产品：PFA高洁净防静电膜片阀。
此产品专为半导体与其他超高洁净应用而设计，透过创新结构，有效解决制程中常见的静电积聚问题，提升生产的稳定性与安全性。
静电往往导致元件损坏或污染，为此，和正丰科技研发了方格状阀体设计，搭配垂直肋板与导电材料，能有效引导并消散静电。
测试显示，安装静电消除装置后，膜片处的静电值可从-2.58KV 降至-158V，并将流道内外电压差降低40%以上，大幅提升制程可靠性。
「这款PFA 高洁净防静电膜片阀是我们在流体控制领域持续创新的成果，」和正丰科技发言人表示，「它不仅确保流体洁净度，更能主动消除静电威胁，协助客户提升产线良率与可靠性」。
和正丰科技股份有限公司| 台南总部致力提供高品质、高洁净的流体控制解决方案，携手迈向更洁净、更可靠的未来。
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